拓荆科技：PEALD设备已实现量产，SACVD和HDPCVD设备均已实现产业化

拓荆科技近日接受机构调研时表示，公司研制的ALD设备系列产品包括PE-ALD设备和Thermal-ALD设备，PE-ALD设备已实现量产，可以沉积SiOSiN等介质薄膜材料，Thermal-ALD设备已出货至不同客户端进行验证，可以沉积Al2O3等金属化合物薄膜；SACVD和HDPCVD设备均已实现产业化。公司将持续保持产品核心竞争优势，不断扩大量产应用规模。

文章转载自：界面新闻网 非本站原创

　　免责声明：本文由用户上传，与本网站立场无关。财经信息仅供读者参考，并不构成投资建议。投资者据此操作，风险自担。 如有侵权请联系删除！